Contract No. 65 REASOX

Radiation effects on amorphous semiconductor oxides used for flexible and transparent microelectronics

Rezumat

Se vor studia efectele radiatiilor (gamma, protoni si explozia in plasma) asupra proprietatilor filmelor subtiri ale oxizilor semiconductori amorfi (AOS) folositi pentru electronica flexibila si transparenta. In cea de-a doua etapa a cercetarii, filmele AOS vor fi incorporate in dispositive ca diode Schottky, capacitoare MOS si filme subtiri tranzistoare pentru evaluarea efectelor radiatiei asupra caracteristicilor dispozitivului, a starilor suprafetei, interfetei si in volum, si a benzilor de energie. Explozii ale particulelor puternic ionizate rezultate in expansiunea plasmei de mare viteza generata prin iradierea anumitor tinte cu pulsuri laser provenite de la o sursa laser fs de 1 PW putere, instalat recent in INFPLR, va fi folosit pentru iradierea circuitelor electronice continand dispozitive bazate pe AOS pentru a simula efectele vantului solar asupra comportamentului lor. Acest proiect va oferi date utile din perspectiva stiintifica si o buna intelegere a efectelor radiatiei asupra dispozitivelor bazate pe AOS ce pot fi folosite in aplicatii pentru spatiul cosmic.